Äskettäisessä "SSLCHINA 2021: Mini / Micro LED Technology Industry Application Forum", Hu Jianzheng, Johtaja MOCVD Process Technology of China Micro Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd., jakoi Prismo UniMax® MOCVD -laitteet, joita Käytetään siniseen ja vihreään MiniLED-tuotantoon China Micro Semiconductors (Shanghai) Co., Ltd. Viimeisimmät tapahtumat.
Hu Jianzheng esitteli, että verrattuna perinteisiin valaistukseen käytettäviin LED-valoihin Mini / Micro LED -epitaksiaalikiekoilla on tiukemmat vaatimukset aallonpituuden tasaisuudelle ja hiukkasmäärälle. On tarpeen kehittää uusi MOCVD-alusta epitaksiaalikiekkojen aallonpituuden yhtenäisyyden parantamiseksi ja hiukkasten vähentämiseksi. Määrä, jotta Mini / Micro LED: n kaupallinen soveltaminen voidaan toteuttaa.
China Microelectronicsin kehittämä uusin MOCVD-alusta Prismo UniMax®, jota voidaan käyttää MiniLEDien massatuotantoon paikallisen lämpötilakentän hienosäädön ja virtauskentän optimoinnin avulla, 4" ja 6" substraateilla kasvatetut sinivihreät LEDit ovat saavuttaneet hyviä tuloksia.的wavelength-yhdenmukaisuus. 41×4" kokoonpanon tilassa aallonpituuden yhdenmukaisuus sinisen LED-sirun sisällä ja välillä on myös erittäin korkea, vastaavasti 0,71 nm ja 0,87 nm (1σ); 10×6" kokoonpanon tilassa sinisen LED-sirun aallonpituus on yhtenäinen Suorituskyky saavuttaa 0,84 nm (1σ), ja 100 mm×100 mm: n neliökilven aallonpituuden suurin ja pienin ero on niinkin alhainen kuin 2,4 nm. 6 tuuman vihreälle LED:lle, jonka keskimääräinen aallonpituus on 530nm, on-chip-aallonpituuden tasaisuus on 1,04 nm (1σ), ja 100 mm×100 mm: n neliösirun suurin ja pienin ero aallonpituudessa on vain 4.6nm.
China Microelectronicsin virallisen verkkosivuston mukaan Prismo UniMax® MOCVD -laitteissa on kokoonpanon kannalta jopa 4 reaktiokammiota, jotka voivat käsitellä samanaikaisesti 108 4 tuuman tai 40 6 tuuman korkean suorituskyvyn galliumnitridipohjaisia sinivihreitä MiniLED-epitaksisia kiekkoja samanaikaisesti. Säätöä voidaan laajentaa käsittelemään samanaikaisesti 164 4- tai 72 6-tuumaista epitaksikaalikiekkoa, ja sen prosessikykyä voidaan laajentaa myös 8 tuuman epitaksikaalikiekkojen kasvattamiseen. Lisäksi laite on varustettu 785 mm: n halkaisijaltaan suurella grafiittialustalla, joka parantaa huomattavasti laitteiden tuotantokapasiteettia ja vähentää tehokkaasti MiniLED-epitaksikaalikiekkojen tuotantokustannuksia.
On raportoitu, että Prismo UniMax® MOCVD -laitteet julkaistiin virallisesti tämän vuoden kesäkuussa, ja niitä käytetään pääasiassa GaN-pohjaisten MiniLED-epitaksikaalikiekkojen massatuotantoon. 9. joulukuuta China Microelectronics ilmoitti, että Prismo UniMax® MOCVD -laitteiden tilaus on ylittänyt 100 onteloa.
On selvää, että China Micro Semiconductor Equipment Co, Ltd on perustettu vuonna 2004 ja sen pääkonttori sijaitsee Shanghaissa. Vuonna 2019 se listattiin Shanghain pörssin tiede- ja teknologiainnovaatiolautakuntaan. Se harjoittaa pääasiassa korkealaatuisten puolijohdelaitteiden ja pan-puolijohdelaitteiden tutkimusta ja kehittämistä, tuotantoa ja myyntiä. Yhtiön tuotejakelu On: CCP-etsauslaitteet, ICP-etsauslaitteet, syvät piietsauslaitteet, MOCVD-laitteet, VOC-puhdistuslaitteet.
Niistä China Microelectronicsin kehittämiä Prismo-sarjan MOCVD-laitteita voidaan käyttää laajalti eri laitteiden valmistuksessa, jotka perustuvat ryhmän III nitrideihin, mukaan lukien sinivihreät LEDit, syvät ultravioletti-LEDit ja voimalaitteet. Tällä hetkellä China Micron MOCVD-laitteet on sijoitettu massatuotantoon alan suurimmilla LED-tuotantolinjoilla.
Vuonna 2020 China Microelectronics saavutti 2,273 miljardin juanin liikevoiton, mikä on 16,76%: n vuotuinen kasvu; pörssiyhtiöiden osakkeenomistajille kuuluva nettotulos oli 492 miljoonaa yuania, mikä on 161,02 prosentin kasvu vuodentakaisesta. Vuoden 2021 ensimmäisellä puoliskolla China Micron liiketulos oli 1,339 miljardia yuania, mikä merkitsee 36,82 prosentin kasvua vuodentakaisesta; pörssiyhtiöiden osakkeenomistajille kuuluva nettotulos oli 397 miljoonaa yuania, mikä on 233,17 prosentin kasvu vuodentakaisesta.
